İki-foton polimerizasyon (2PP) teknolojisi, nanometre hassasiyetinde 3D yapılar üretebilme yeteneğiyle dikkat çekse de, seri üretim doğası nedeniyle yavaş kalıyordu. Araştırmacılar bu soruna karşı geliştirdikleri yeni yaklaşımla, üretim hızını dramatik şekilde artırmayı başardı.
Geleneksel 2PP sistemlerinde difraktif optik elementler (DOE) kullanılarak tek düzlemde birden fazla yazma noktası oluşturulabiliyordu, ancak üç boyutlu yapılar için hala katman katman üretim gerekiyordu. Yeni geliştirilen sistem ise tek bir statik DOE kullanarak iki bağımsız düzlemde eş zamanlı yazdırma yapabiliyor.
Sistem, 29 yazma noktasını iki düzleme dağıtarak çalışıyor ve bu düzlemler arasında 1.8 mikrometre mesafe bulunuyor. Sürekli tarama sırasında iki katmanı aynı anda üretebilen bu konfigürasyon, woodpile yapıları gibi karmaşık geometriler için uyumlu basit tarama stratejileri kullanıyor.
Test sonuçları etkileyici: dört katmanlı woodpile yapıları sadece 90 saniyede tamamlanırken, etkili yazma hızı 1 mm²'ye ulaşıyor. Bu yenilik, çok noktalı paralelleştirme ile eş zamanlı çok düzlemli yazdırmanın birleşiminin, 2PP üretim hızını önemli ölçüde artırabileceğini kanıtlıyor.
Bu teknolojik gelişme, mikroelektronik bileşenlerden biyomedikal uygulamalara kadar geniş bir yelpazede nanometre hassasiyetli üretimi daha pratik hale getirebilir.